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AMAT 0010-09750 为应用材料公司（Applied Materials）旗下，用于 P5000 工艺的化学气相沉积（CVD）射频匹配模块 。应用材料在半导体制造设备领域处于行业领先地位，其产品广泛应用于芯片制造等关键环节，为全球半导体产业发展提供重要支撑。
产品描述
AMAT 0010-09750 主要用于在半导体制造的化学气相沉积工艺里，实现射频电源与反应腔之间的高效匹配。在 CVD 过程中，需要将特定气体输送至反应腔，在射频能量激励下发生化学反应，在晶圆表面沉积出所需薄膜。而该模块可确保射频能量稳定、高效地传输至反应区域，保证反应稳定进行。通过精准匹配，能优化等离子体的产生与维持，提高薄膜沉积的均匀性与质量，直接影响芯片制造过程中薄膜的厚度均匀度、成分一致性等关键指标，进而提升芯片性能与生产良率。它采用先进电路设计与制造工艺，具备高可靠性与稳定性，可适应半导体制造车间复杂且高标准的环境，保障长时间连续运行。在维护与操作方面，该模块设计便于安装、拆卸与检修，利于降低设备维护成本与停机时间。同时，其可能集成了智能监测功能，可实时反馈工作状态与关键参数，便于工程师及时掌握情况并调整。
产品参数
- 电气参数：
- 输入射频频率：与常见的半导体制造设备射频电源频率匹配，可能为 13.56MHz 等行业标准频率，确保能与通用的射频电源协同工作，为 CVD 工艺提供稳定激励源。
- 匹配阻抗范围：具备灵活的匹配能力，可在一定范围内调节阻抗，如 50Ω±5%，以适配不同反应腔的负载特性，保证射频能量传输效率最大化，减少反射损耗。
